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第三届国际PROLITH光刻仿真技术研讨会在北理工召开

供稿: 光电学院 摄影: 党委宣传部 徐思军 编辑: 盛筠
(2018-10-11) 阅读次数:
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  国际半导体行业知名企业美国KLA-Tencor公司与优德w88官网【手机版】 共同主办的第三届国际PROLITH光刻仿真技术研讨会于9月27日在优德w88官网【手机版】 国际教育交流大厦召开。来自国内和美国相关企业、科研院所和高校的光刻技术领域的专家、学者40多人参加了本次会议。

  会议由KLA-Tencor公司的高级主管Patrick Lee先生和优德w88官网【手机版】 光电学院李艳秋教授共同主持。优德w88官网【手机版】 光电学院副院长杨亚楠等领导致欢迎辞。Patrick Lee先生、技术主管Stewart Robertson先生和李艳秋教授团队李铁等为大会作七项报告。报告介绍了该公司在DUV和EUV光刻仿真和光刻性能表征控制等领域的最新研发进展。优德w88官网【手机版】 概述了李艳秋团队主持并验收的多项国家科技重大专项课题成果,重点是北理工承担的"十三五”国家科技重大专项课题在14-7nm 节点DUV 和EUV 先进光刻机光学系统设计和像质检测技术、14-7nm 技术节点需要的光刻机设备/掩模/工艺与新型计算光刻的协同设计优化技术等方面取得的先进成果。

  会议期间,参会者进行了深入的技术交流与讨论。本届会议进一步扩大了我校在相关领域的国内外影响,促进了企业与高校科、研院所在该技术领域的深入合作,持续推动了我校开展内外的产、学、研实质性合作及人才培养。


(审核:邹锐)

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